ساختار دستگاه اچینگ پلاسما

تجهیزات ICP عمدتاً از چهار بخش تشکیل شده است: محفظه پیش-خلاء، محفظه اچینگ، سیستم تامین گاز و سیستم خلاء.

(1) محفظه پیش{1}}خلاء

عملکرد محفظه پیش{0} خلاء این است که اطمینان حاصل شود که محفظه اچ در یک سطح خلاء تنظیم شده نگهداری می شود، تحت تأثیر محیط خارجی (مانند گرد و غبار، بخار آب) قرار نمی گیرد و گازهای خطرناک را از اتاق تمیز جدا می کند. این شامل یک پوشش، یک دستکاری، یک مکانیسم انتقال، یک درب ایزوله و غیره است.

(2) اتاق اچینگ

محفظه اچینگ ساختار اصلی تجهیزات اچینگ ICP است. تأثیر مستقیمی بر میزان اچینگ، عمودی بودن اچ و زبری دارد. اجزای اصلی محفظه اچ عبارتند از: الکترود بالایی، واحد فرکانس رادیویی ICP، واحد فرکانس رادیویی RF، سیستم الکترود پایینی، سیستم کنترل دما و غیره.

(3) سیستم تامین گاز

سیستم تامین گاز برای رساندن گازهای اچینگ مختلف به محفظه اچینگ و کنترل دقیق نرخ جریان گاز و جریان از طریق کنترل کننده فشار (PC) و کنترل کننده جریان جرم (MFC) است. سیستم تامین گاز شامل یک بطری منبع گاز، یک خط لوله انتقال گاز، یک سیستم کنترل، یک واحد اختلاط و غیره است.

(4) سیستم خلاء
دو سیستم خلاء وجود دارد، یکی برای محفظه پیش-خلاء و دیگری برای محفظه اچ. محفظه پیش{2}}خلاء توسط یک پمپ مکانیکی تخلیه می شود. تنها زمانی که سطح خلاء در محفظه پیش{4}}خلاء به مقدار تنظیم شده برسد، می‌توان درب جداسازی را برای انتقال ویفر باز کرد. خلاء در محفظه اچ توسط یک پمپ مکانیکی و یک پمپ مولکولی تامین می شود. گازهای تولید شده توسط واکنش در محفظه اچ نیز توسط سیستم خلاء تخلیه می شوند.